Plasmas froids radiofréquence - Université Pierre et Marie Curie Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Images de la physique 2009 Année : 2010

Plasmas froids radiofréquence

Résumé

L'interaction d'un plasma froid faiblement ionisé et d'une surface semiconductrice est à l'origine des technologies de nanostructuration de la matière en microélectronique. Ces plasmas sont générés et entretenus par des champs électromagnétiques radiofréquence. La compréhension des mécanismes fondamentaux du couplage de l'énergie électromagnétique au plasma et de son transport vers les surfaces du réacteur est un enjeu majeur pour la maîtrise des procédés industriels utilisant les plasmas froids radiofréquence.
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02570442 , version 1 (12-05-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02570442 , version 1

Citer

Pascal Chabert, Jean-Luc Raimbault. Plasmas froids radiofréquence. Images de la physique 2009, 2010, p27. ⟨hal-02570442⟩
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