Résistance au flux laser sub-picoseconde de couches d'HfO2 déposées par EBD - ENSTA Paris - École nationale supérieure de techniques avancées Paris Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Résistance au flux laser sub-picoseconde de couches d'HfO2 déposées par EBD

Adrien Hervy
Interaction Laser-Matière
Laurent Gallais
ILM
CV
Daniel Mouricaud
  • Fonction : Auteur
REOSC
G. Cheriaux
  • Fonction : Auteur
Laboratoire d'optique appliquée

Domaines

Optique [physics.optics]

Laurent Gallais  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00854931

Soumis le : mercredi 28 août 2013-13:32:22

Dernière modification le : mardi 31 octobre 2023-10:20:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00854931 , version 1 (28-08-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00854931 , version 1

Citer

Adrien Hervy, Laurent Gallais, Daniel Mouricaud, G. Cheriaux. Résistance au flux laser sub-picoseconde de couches d'HfO2 déposées par EBD. Journée Couches Minces Optiques, 2013, Palaiseau, France. ⟨hal-00854931⟩

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