High-Temperature Kinetics of AlCl[sub 3] Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition - ENSTA Paris - École nationale supérieure de techniques avancées Paris Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of The Electrochemical Society Année : 2002

High-Temperature Kinetics of AlCl[sub 3] Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition

L. Catoire
Génie des Procédés
CV
Mark T. Swihart
  • Fonction : Auteur
State University of New York

Domaines

Sciences de l'ingénieur [physics] Milieux fluides et réactifs

Laurent Catoire  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01221159

Soumis le : mardi 27 octobre 2015-15:01:08

Dernière modification le : mercredi 11 mai 2022-15:22:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01221159 , version 1 (27-10-2015)

Identifiants

Citer

L. Catoire, Mark T. Swihart. High-Temperature Kinetics of AlCl[sub 3] Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition. Journal of The Electrochemical Society, 2002, 149 (5), ⟨10.1149/1.1467366⟩. ⟨hal-01221159⟩

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