Plasmas froids radiofréquence - Archive ouverte HAL Access content directly
Journal Articles Images de la physique 2009 Year : 2010

Plasmas froids radiofréquence

(1) , (1)
1

Abstract

L'interaction d'un plasma froid faiblement ionisé et d'une surface semiconductrice est à l'origine des technologies de nanostructuration de la matière en microélectronique. Ces plasmas sont générés et entretenus par des champs électromagnétiques radiofréquence. La compréhension des mécanismes fondamentaux du couplage de l'énergie électromagnétique au plasma et de son transport vers les surfaces du réacteur est un enjeu majeur pour la maîtrise des procédés industriels utilisant les plasmas froids radiofréquence.
Not file

Dates and versions

hal-02570442 , version 1 (12-05-2020)

Identifiers

  • HAL Id : hal-02570442 , version 1

Cite

Pascal Chabert, Jean-Luc Raimbault. Plasmas froids radiofréquence. Images de la physique 2009, 2010, p27. ⟨hal-02570442⟩
22 View
0 Download

Share

Gmail Facebook Twitter LinkedIn More